发明名称 |
向包含非晶质碳膜之层之固定化方法及积层体 |
摘要 |
本发明提供一种非晶质碳膜,其可在设置于基材上之包含非晶质碳膜之层上固定包含与该膜之表面之羟基进行缩合反应之材料的层,且具有充分之保持力与该保持力之均匀性。一种在设置于基材上之包含非晶质碳膜之层之表面,固定包含与该膜之表面之羟基进行缩合反应之材料之层的方法。该方法系藉由使包含上述非晶质碳膜之层中含有Si及O,而提高包含与上述羟基进行缩合反应之材料之层的密接耐久性及结合状态之均匀性。尤其是藉由使用氟系矽烷偶合剂,而可赋予斥水斥油性或耐磨性、耐化学品性、低摩擦性、非黏着性等高功能。 |
申请公布号 |
TWI466782 |
申请公布日期 |
2015.01.01 |
申请号 |
TW100107237 |
申请日期 |
2011.03.03 |
申请人 |
太阳化学工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
涩泽邦彦;佐藤刚 |
分类号 |
B32B7/10;B32B33/00;C09K3/18 |
主分类号 |
B32B7/10 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种固定化方法,其特征在于:其系在设置于基材上之包含非晶质碳膜之层之表面,固定包含与该膜之表面之羟基进行缩合反应之材料的层者,藉由使包含上述非晶质碳膜之层中含有Si及O,而提高包含与上述羟基进行缩合反应之材料之层的密接耐久性及结合状态之均匀性,其中与上述羟基进行缩合反应之材料为斥水性材料或斥水.斥油性材料。 |
地址 |
日本 |