发明名称 选择性控制离子源之离子组成物之系统和方法
摘要 一种调整电浆的组成物的方法,用于电浆掺杂、电浆沈积和电浆蚀刻技术中。所揭示的方法可藉由修饰电浆中所存在的电子的能量分布来控制电浆的组成物。使用很快的电压脉冲使电浆中的电子加速,以便在电浆中产生有能量的电子。该脉冲需足够长以影响电子,但太短将不能对离子造成显着影响。有能量的电子和电浆组成物之间的碰撞,造成电浆组成物中的变化。电浆组成物然后可最佳化,以符合所使用的特定制程之需求。这意味着能使电浆中离子物种之比例改变、使离子化相对于分解的比例改变、或使电浆之激发状态群改变。
申请公布号 TWI467621 申请公布日期 2015.01.01
申请号 TW099121469 申请日期 2010.06.30
申请人 瓦里安半导体设备公司 美国 发明人 哈迪德 卡莫尔;都蕾 拉杰许;琳赛 伯纳德G;辛 维克拉姆;帕帕守尔艾迪斯 乔治D
分类号 H01J37/317;H01J37/32;H05H1/24 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种修饰次大气压电浆的方法,包括:提供一馈送气体至一腔室;激发所述馈送气体以产生一电浆;以及施加一电场脉冲至所述电浆,所述电场脉冲的上升时间基本上等于或小于电子电浆频率之倒数,且所述电场脉冲所具有的期间小于离子电浆频率之倒数;其中,所述电场脉冲选择性地影响所述电浆的电子,但基本上不影响所述电浆的离子;且受影响的电子修饰了所述电浆中所述离子和中性粒子的组成物、密度和温度。
地址 美国