| 摘要 |
于本发明之基板处理装置1中，藉由使于腔室12之外周形成侧方空间160之护罩部161，相接于与腔室本体121产生分离之腔室盖部122，而形成扩大密闭空间100。扫描喷嘴188系在侧方空间160内而安装于护罩部161，经由环状开口81朝向基板9之上方进行移动，且对基板9上供给药液。在进行基板9之清洗处理及乾燥处理时，将扫描喷嘴188收容至侧方空间160，藉由腔室盖部122将腔室本体121之上部开口加以封闭，藉此，使腔室空间120与侧方空间160产生隔绝而被加以密闭。藉此，可将腔室空间120与扫描喷嘴188产生隔离。其结果，可防止来自扫描喷嘴188之药液之雾气等而附着于基板9。 |
