用于ＥＵＶ微影之ＰＥＣＶＤ膜;PECVD FILMS FOR EUV LITHOGRAPHY

摘要

本文中提供一种用于极紫外线微影的多层堆叠体，该多层堆叠体被特制用以达成最佳的蚀刻反差以缩小特征部并使特征部的边缘平滑化，同时赋予使用光学水平感测器的能力而只会有很少或减少的错误。该多层堆叠体可具有介于待图案化的目标层与光阻之间的一原子级平滑层及一或更多下层， 其中该原子级平滑层具有小于一单分子层的一平均局部粗糙度。亦提供在极紫外线微影中使用之多层堆叠体的沉积方法。