决定曝光参数的方法，曝光方法，制造元件的方法及记录媒体

摘要

一种在有多种图案被转移至一基材上时用来决定曝光参数的方法包含为一曝光参数的多个数值及一曝光量与一散焦(defocus)量的至少一者的多个数值的每一种组合计算出在照明一物件平面上的图案时形成在一影像平面上的一光学影像；对该曝光参数的多个数值的每一者计算出在该等多种图案的每一种图案中一介于一目标光学影像的轮廓与该光学影像之计算出来的轮廓之间的偏差；并决定出一曝光参数的数值作为在曝光该基材时的曝光参数的数值，在该曝光参数的数值下，该等多种图案之间的最大偏差值是最小的。

主权项

一种当有多种形成在一标线片上的图案的影像被一曝光设备转移至一基材上时用来决定该曝光设备的一曝光参数的数值的方法，该方法包含的步骤为：设定该曝光参数的数值，该曝光参数不包含该光罩参数；使用该曝光参数之该被设定的数值来为一曝光量与一散焦(defocus)量的至少一者的多个数值计算出该等多种图案的一光学影像，该光学影像系在照明该投影光学系统的一物件平面上的该等多种图案时被形成在一影像平面上；为该等多种图案的每一种图案计算出一介于一目标光学影像的轮廓与该光学影像之在前述计算步骤中算出来的轮廓之间的偏差；改变该曝光参数并使用该被改变的曝光参数重复该计算步骤及该获得步骤；及使用在该计算步骤及该重复步骤中的计算结果来决定该曝光参数的一个数值，在该曝光参数的数值下，该等多种图案之中的光学影像的轮廓的偏差的最大值是最小的。