使用光学发光光谱仪／残余气体分析仪配合离子流的剂量控制方法

摘要

本发明主要提供了在电浆处理中控制即时离子剂量的方法和设备。在一个实施例中，可利用质量分布感测器之电浆原地测量结合射频探针的原地测量来控制离子剂量。

主权项

一种处理一基板的方法，包括：将该基板置于一电浆反应器中，该电浆反应器经配置以执行一电浆处理；藉由自一耦接至该电浆反应器之射频偏压功率提供一射频偏压，以在该电浆反应器中产生一电浆好开始该电浆处理；利用一第一感测器来获得该电浆之至少一属性的一数值，该第一感测器经配置以监控该电浆反应器中产生之该电浆的至少一属性，其中该电浆之至少一属性包括该电浆中该一或多个离子物种在所有离子中的一比值；利用一第二感测器来获得总离子流的一数值，该第二感测器经配置以监控该耦接至该电浆反应器之射频偏压功率的至少一属性，其中该第二感测器为一射频电压/电流探针，该射频电压/电流探针连接至该射频偏压功率的一馈电点；以及从该电浆之至少一属性的数值和该总离子流的数值来确定该电浆中一或多个离子物种的一即时剂量值。