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经营范围
发明名称
微影光罩、微影装置及方法
摘要
一种微影光罩,其具有实质上透射某一波长之辐射之一基板,该基板具有呈一图案之一辐射吸收材料,该图案经组态以将一另外图案施加至该某一波长之一辐射光束之一横截面,其中该辐射吸收材料具有实质上等于该某一波长除以该辐射吸收材料之一折射率之一厚度。
申请公布号
TWI467319
申请公布日期
2015.01.01
申请号
TW102101901
申请日期
2013.01.17
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
芬德斯 乔泽夫 玛利亚
分类号
G03F1/22;G03F1/72
主分类号
G03F1/22
代理机构
代理人
林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种微影光罩,其包含实质上透射特定波长之辐射之一基板,该基板具有呈一图案之一辐射吸收材料,该图案经组态以将一另外图案施加至该特定波长之一辐射光束之一横截面,其中该辐射吸收材料具有实质上等于该特定波长除以该辐射吸收材料之一折射率之一厚度。
地址
荷兰
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