雷射处理设备

摘要

本发明关于一种雷射处理设备。此种雷射处理设备包含：一雷射光源，用以产生一雷射束；以及一光学单元，用以将雷射束导引进入至一目标对象之内部。此光学单元包含：一光束成形模组，用以校正雷射束之一发散角；一衍射光栅，用以衍射雷射束；以及一聚焦透镜，用以将雷射束聚集至目标对象之内部以及形成一光点。

主权项

一种雷射处理设备，系包含：一雷射光源，系配设为产生一雷射束；以及一光学单元，系配设为将该雷射束导引进入至一目标对象之内部，其中该光学单元包含：一光束成形模组，系配设为校正该雷射束之一发散角；一衍射光栅，系配设为衍射该雷射束；以及一聚焦透镜，系配设为将该雷射束聚集至该目标对象之该内部以及形成一光点，其中透过该光束成形模组使该光点的大小在与一预设切割线相垂直的方向上减少，并且其中透过该衍射光栅在与该预设切割线相平行之方向上形成复数个微光点。