发明名称 |
量测产品之位置的方法、对准系统、光微影装置、产品及器件制造 |
摘要 |
在一产品上使用一对准标记来量测该产品之位置。发射辐射朝向该对准标记,且由该对准标记中之一图案绕射。自该绕射辐射之相位关系判定位置资讯。该对准标记包含一相互平行导体轨道集合,自其收集该绕射辐射,该图案系由顺次轨道之间的间距依据沿着该产品之表面之位置的变化图案来界定。因此,举例而言,该图案包含交替第一区域及第二区域,其中该间距分别具有一第一值及一第二值。因为该图案之不同部分(诸如,该第一区域及该第二区域)中的该等轨道彼此平行,所以改良之量测是可能的。 |
申请公布号 |
TWI467350 |
申请公布日期 |
2015.01.01 |
申请号 |
TW097147853 |
申请日期 |
2008.12.09 |
申请人 |
ASML荷兰公司 荷兰 |
发明人 |
山米 慕沙;理查 乔哈奈 法兰西卡斯 凡 哈伦;珊杰新 拉贝哈多新;修宏 卫 |
分类号 |
G03F9/00;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种量测一产品之一位置的方法,该方法包含:发射电磁辐射朝向该产品之一表面处之一对准(alignment)标记;收集由该对准标记所绕射之辐射;及自该绕射辐射之相位关系判定位置资讯,其中该对准标记包含在连续轨道之间有一间距之一相互平行导体轨道集合,自该等轨道收集该绕射辐射,该集合中之该等轨道之该间距随该产品之该表面之位置而变化,所收集的该辐射之绕射所发生之角度视该集合中之该等轨道之该间距的变化之图案位置而定,其中该相互平行导体轨道集合包含一第一组平行导体轨道及一第二组平行导体轨道,该第一组平行导体轨道在连续轨道之间具有一第一间距,及该第二组平行导体轨道在连续轨道间具有一第二间距,该第一间距不同于该第二间距,及其中所收集的该辐射之绕射所发生之角度视该第一间距及该第二间距之间的变化而定。 |
地址 |
荷兰 |