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一种干涉成像装置，包括：一射源装置，系为一极紫外线射源，用以产生一输入射源；以及一成像装置，接收该输入射源，并将该输入射源分为一参考射束与一样本射束，其中该成像装置的多个反射或聚焦元件皆为使用特定材料组合之多层膜片，且该成像装置包括：一参考路径辐射单元，其中该参考射束通过该参考路径辐射单元，而聚焦于一辐射感测器；一样本路径辐射单元，用以供一待测物设置于其中，其中该样本射束通过该样本路径辐射单元而聚焦于该辐射感测器；以及该辐射感测器，撷取一干涉资讯，其中该干涉资讯系由聚焦于该辐射感测器之该参考射束与该样本射束干涉而形成，该干涉资讯带有该待测物之一结构资讯，而聚焦于该辐射感测器之该参考射束与该样本射束之间的一波程差小于该输入射源的一同调长度；其中，该样本路径辐射单元更包括：一横向位移单元，系以供调整该样本路径辐射单元的一路径长度，并用以接收该样本射束，以产生一横向位移样本射束；一第一样本射束聚焦单元，系由具有一第二固定焦点之一第二反射壳面所组成，接收该横向位移样本射束，以产生一样本聚焦射束聚焦于该待测物之表面或内部之一位置；一目标单元，系以供设置该待测物，以反射该样本聚焦射束，并产生一样本资讯射束；以及一第二样本射束聚焦单元，系由具有一第三固定焦点之一第三反射壳面所组成，接收该样本资讯射束，以产生一样本资讯聚焦射束聚焦于该辐射感测单元。 |
