发明名称 |
具抗电磁波层之防护薄膜及其制作方法 |
摘要 |
一种具抗电磁波层之保护薄膜制作方法,系包含:于一承载层之表面设置一离型层;于该离型层之表面设置一强化层;于该强化层之表面设置一呈色层;于该呈色层之表面设置一结合层;以及,于该离型层设置步骤与该结合层设置步骤之间以印刷方式于该离型层及结合层之间设置一抗电磁波层。藉此,本发明可于保护薄膜内形成有该抗电磁波层。 |
申请公布号 |
TWI468103 |
申请公布日期 |
2015.01.01 |
申请号 |
TW100123336 |
申请日期 |
2011.07.01 |
申请人 |
森田印刷厂股份有限公司 台南市安南区科技五路85号 |
发明人 |
林景宏 |
分类号 |
H05K9/00 |
主分类号 |
H05K9/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
黄耀霆 高雄市苓雅区中正一路284号12楼 |
主权项 |
一种具抗电磁波层之保护薄膜,系包含一承载层,该承载层之表面层叠有一离型层、一强化层、一呈色层及一结合层,其特征在于:该离型层及结合层之间另设置一抗电磁波层;及一架桥层,该架桥层系设置于该呈色层及结合层之间。 |
地址 |
台南市安南区科技五路85号 |