以轨道处理在定向自组装化学外延应用中移除有机膜;TRACK PROCESSING TO REMOVE ORGANIC FILMS IN DIRECTED SELF-ASSEMBLY CHEMO-EPITAXY APPLICATIONS

摘要

本发明系制备预图案化基板以用于DSA整合中的方法。一例中，该方法包含移除覆盖于图案化交联聚苯乙烯共聚物层的辐射敏感性材料图案，其系藉由（a）暴露于溶剂蒸气；（b）暴露于液态溶剂；（c）重覆（a）到（b），一直到完全移除辐射敏感性材料。另一例中，该方法包含：藉由影响下方图案化辐射敏感性材料层的移除来移除中性层的步骤，该步骤包含：膨胀中性层；及藉由将膨胀层及图案暴露至显影液移除辐射敏感性材料图案及部分膨胀中性层。膨胀中性层包含：（a）暴露于溶剂蒸气；（b）暴露于液态溶剂；及（c）重复（a）到（b），一直到中性层膨胀到足以允许显影液侵入膨胀中性层。; and removing the radiation-sensitive material pattern and the swollen neutral layer in portions by exposing the swollen layer and pattern to a developer solution. Swelling the neutral layer includes a) exposure to a solvent vapor; b) exposure to a liquid solvent; and c) repeating steps a)-b) until the neutral layer is sufficiently swollen to allow penetration of the developing solution through the swollen neutral layer.