用于混合电容耦合及感应耦合电浆处理系统之方法与设备

摘要

本发明提供一种电容耦合电浆(CCP)处理系统，其具有用以处理一基板之一电浆处理容室。CCP处理系统包含用以处理基板之一上部电极与一下部电极，基板系在电浆处理期间被配置在下部电极上。CCP处理系统亦包含一电感器线圈配置阵列，其用来以电感方式维持在上部电极与下部电极之间的一间隙中的电浆。

主权项

一种电容耦合电浆(CCP)处理系统，其具有一电浆处理容室，用以处理一基板，该CCP处理系统包含：至少一上部电极与一下部电极，用以处理该基板，该基板系在电浆处理期间被配置在该下部电极上；以及一电感器线圈配置阵列，其具有复数个电感器线圈，该电感器线圈配置阵列系被配置在该上部电极之上，该电感器线圈配置阵列用来以电感方式维持在该上部电极与该下部电极之间的一间隙中的电浆，其中对于相位与射频(RF)功率之间，该复数个电感器线圈中之至少一子集合之个别电感器线圈系可独立控制的，其中该复数个电感器线圈包含至少：一组磁性核心；以及一组线圈，该组线圈中之各线圈系缠绕在该组磁性核心之各磁性核心，其中该组磁性核心中之第一磁性核心系与一邻近磁性核心隔开一距离，该距离大约是该上部电极与该下部电极之间的该间隙之25%至100%，且其中该上部电极设有一静电屏蔽，该静电屏蔽具有朝该等电感器线圈大致呈辐射状的复数裂缝，各裂缝形成在该等电感器线圈的相邻电感器线圈之间。