用于修正光学误差之位置量测之方法及用于判定光罩绘制器误差之方法;METHOD FOR CORRECTING POSITION MEASUREMENTS FOR OPTICAL ERRORS AND METHOD FOR DETERMINING MASK WRITER ERRORS

摘要

本发明揭示一种用于修正由在一阵列目标之目标之座标之量测之值中之光学失真或像差引入之误差之方法，例如在一晶圆或一微影光罩上之结构。该阵列目标放置于一成像系统之一视野中，经由该成像系统量测该等座标。该阵列目标放置于相对于该视野之不同相对位置处，且对于各相对位置，藉由量测判定相对于该阵列目标之该等目标之该等座标。自此等量测之该等结果，导出一对准函数，其作为该视野中之该位置之一函数给出对于光学误差之一修正。藉由该对准函数修正该等量测之座标。该等修正之座标可用于识别一光罩绘制器之配准误差。