用于化学气相沉积的反应装置及反应制程;REACTION DEVICE AND MANUFACTURE METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

摘要

一种用于化学气相沉积的反应装置，包括一反应室、一托盘、一进气管单元以及一排气管。托盘配置于反应室中。进气管单元包括多个进料口，此些进料口水平朝向托盘的周围区域，以输入至少一反应气体至反应室，此至少一反应气体被引导由托盘的周围区域沿着其表面移动至托盘的。排气管包括一出料口，出料口的位置对应于托盘的，以将流动至托盘的的反应气体排出于反应室。