发明名称 用于向下流触媒反应器之流动分布装置
摘要 本发明系关于一种流体分布装置,其用于与流体分布管道或烟囱耦接以改良向下流动之包括至少一个气相及至少一个液相的多相混合物在粒状固体触媒材料之至少一个触媒床上方的分布。该用于接收该等液相及气相之流体分布装置具有位于其高度之顶部及/或上部之气相可经由其进入之一或多个开口,且具有通向该装置内之混合腔的气体管道。该流体分布装置另外包含供液体进入之一或多个侧面开口。该或该等侧面开口允许该液体进入通向该内部混合腔之液体管道。该混合腔允许该等液相与气相之间密切接触。因此,本发明之流动分布装置提供改良之对不水平塔板之容忍度。
申请公布号 TWI466716 申请公布日期 2015.01.01
申请号 TW099133083 申请日期 2010.09.29
申请人 雪维隆美国有限公司 美国 发明人 帕里米 克里许宁亚;宋 史帝芬X;基伦 劳夫E;弥克 朗诺K;索尔斯 史帝芬A
分类号 B01J19/26;C10G45/00 主分类号 B01J19/26
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于将多相流体分布至粒状固体之流动分布装置,其包含:a. 至少一个气体管道,其用于将气相引入径向直径大于该气体管道之径向直径的混合腔中,该气体管道自气体入口开口延伸通过下气体管道开口进入该混合腔中,该气体管道开口系经定位成不低于提供用于将液相引入该混合腔中之液体管道之下限度;及b. 多相喷嘴,其用于加速及分散该液相及该气相流出该流动分布装置,该喷嘴具有固定耦接至该混合腔且与其同轴对准之喷嘴入口。
地址 美国
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