发明名称 光起始剂混合物
摘要 光起始剂混合物包含;至少一α-胺基酮化合物;及;至少一如下化学式之化合物;(I) (I’),;其中,;R1及R’1系,例如,氢、C3-C8环烷基,或C1-C12烷基R2及R2’系,例如,氢;未经取代之C1-C20烷基,或经取代之C1-C20烷基;且R8及R9系,例如,氢、选择性经取代之C1-C12烷基,或选择性经取代之苯基;于光聚合反应展现不可预期之良好性能。
申请公布号 TWI466854 申请公布日期 2015.01.01
申请号 TW098118759 申请日期 2009.06.05
申请人 席巴控股股份有限公司 瑞士 发明人 松本明;仓久敏;史图特 卡堤亚;维雷钮 萨巴斯田
分类号 C07C251/64;C07C323/22;C07D333/22;C07D209/86;C07C323/09;C07C323/47;C07D277/74;C07D295/112;G03F7/004;G03F7/031;C08F2/50;G02B5/20 主分类号 C07C251/64
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种光起始剂混合物,包含至少一α-胺基酮化合物;及至少一化学式(I)或(I’)之化合物其中,R1及R’1彼此独立地系氢、C3-C8环烷基,或C1-C12烷基,其系未经取代或以一或多数之卤素、苯基及/或CN取代;或R1及R’1系C2-C5烯基;或R1及R’1系苯基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4及/或NR5R6取代;或R1及R’1系C1-C8烷氧基、苯甲氧基;或苯氧基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基及/或卤素取代;R2及R2’彼此独立地系氢;未经取代之C1-C20烷基,或以一或多数之卤素、OR3、SR4、C1-C20杂芳基、C8-C20苯氧基羰基、C1-C20杂芳氧基羰基、NR5R6、COOR3、CONR5R6、、苯基及/或以OR3、SR4及/或NR5R6取代之苯基取代之C1-C20烷基,其中,该未经取代或经取代之C1-C20烷基选择性地含有一或多数之C-C多重键;或R2及R2’系NR5R6、或C3-C20环烷基;或系以一或多数O间断且选择性地以一或多数之卤素、OR3、苯基及/或以OR3、SR4及/或NR5R6取代之苯基取代之C2-C20烷基;或R2及R2’系苯基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4及/或NR5R6取代;或R2及R2’系C2-C20烷醯基或苯甲醯基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、苯基、OR3、SR4及/或NR5R6取代;或R2及R2’系C2-C12烷氧基羰基,其系选择性地以一或多数之O间断及/或选择性地以一或多数之羟基取代;或R2及R2’系苯氧基羰基,其系未经取代或以C1-C6烷基、卤素、苯基、OR3、SR4及/或NR5R6取代;或R2及R2’系CN、CONR5R6、NO2、S(O)m-C1-C6烷基;S(O)m-苯基,其选择性地以C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代;或系SO2O-苯基,其系选择性地以C1-C12烷基取代;或系二苯基膦醯基或二-(C1-C4烷氧基)-膦醯基;或R2及R2’系m系1或2;Ar3系苯基、萘基,或香豆素基,其每一者系以卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苯甲基,及/或苯氧基羰基取代一次或多次;或其每一者系以苯基或以一或多数之OR3、SR4及/或NR5R6取代之苯基取代;或其每一者系以选择性以一或多数之O间断及/或选择性以一或多数之羟基取代之C2-C12烷氧基羰基取代;或其每一者系以OR3、SR4、SOR4、SO2R4及/或NR5R6取代;M2系一直接键、环己撑基或C1-C10烷撑基或C1-C10烷撑基-X-,该C1-C10烷撑基或C1-C10烷撑基-X-系选择性以一或多数之O间断及/或选择性以一或多数之卤素、OR3、苯基,或以OR3、SR4及/或NR5R6取代之苯基取代;或M2系苯撑基、萘撑基,或苯撑基-X-,其每一者系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4及/或NR5R6取代;或M2系C1-C10烷撑基-C(O)-X-、C1-C10烷撑基-X-C(O)-、苯撑基-C(O)-X-,或C1-C10烷撑基-苯撑基-X-;M3系一直接键、环己撑基、C1-C10烷撑基或C1-C10烷撑基-X-,该C1-C10烷撑基或C1-C10烷撑基-X-系选择性以一或多数之O间断及/或选择性以一或多数之卤素、OR3、苯基,或以OR3、SR4及/或NR5R6取代之苯基取代;或M3系苯撑基、萘撑基或苯撑基-X-,其每一者系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4及/或NR5R6取代;或M3系C1-C10烷撑基-C(O)-X-、C1-C10烷撑基-X-C(O)-、苯撑基-C(O)-X-、C1-C10烷撑基-苯撑基-X-,或苯撑基-(CO)-苯撑基;X系O、S或NR5;X1系O、S、SO或SO2;X2系一直接键、C1-C20烷撑基,其系选择性以O、CO或NR5间断,且该未经间断或经间断之C1-C20烷撑基系未经取代或以一或多数之卤素、OR3、COOR3、NR5R6、C1-C20杂芳基、C1-C20杂芳基-(CO)O、C1-C20杂芳基-S、CONR5R6、、苯基,或以卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤烷基、SR4、OR3,或NR5R6取代之苯基取代,且该未经取代或经取代,经间断或未经间断之C1-C20烷撑基选择性地含有一或多数之C-C多重键;R3系氢、C1-C20烷基,或苯基-C1-C3烷基;或R3系以OH、SH、-CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH及/或(CO)O(C1-C4烷基)取代之C1-C20烷基;或R3系以一或多数之O间断之C2-C20烷基;或R3系(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基,或C3-C20环烷基,其选择性以O、S、CO、NR5间断;或R3系苯甲醯基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、卤素、OH及/或C1-C4烷氧基取代;或R3系苯基、萘基,或C1-C20杂芳基,其每一者系未经取代或以卤素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫烷基、苯基硫烷基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基,及/或取代;n系1-20;R4系氢、C1-C20烷基、C2-C12烯基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基,其中,该C1-C20烷基、C2-C12烯基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基选择性地系以O、S、CO、NR5间断;或R4系以OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)取代之C1-C8烷基;或R4系(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基;或R4系苯甲醯基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、卤素、-OH、C1-C4烷氧基,或C1-C4烷基硫烷基取代;或R4系苯基、萘基,或C1-C20杂芳基,每一者系未经取代或以卤素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫烷基、苯基硫烷基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N(C1-C8烷基)2,或取代;R5及R6彼此独立地系氢、C1-C20烷基、C2-C4羟烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C3-C12-烯醯基、苯甲醯基;或R5及R6系苯基、萘基,或C1-C20杂芳基,其每一者系未经取代或以C1-C12烷基、苯甲醯基,或C1-C12烷氧基取代;或R5及R6与和其等附接之N-原子一起形成一5-或6-成员之饱和或不饱和之环,其选择性地以O、S或NR3间断,且该环系未经取代或以一或多数之C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、SR4、OR3或NR17R18、(CO)R19、NO2、卤素、C1-C4卤烷基、CN、苯基、、或选择性以O、S、CO或NR3间断之C3-C20环烷基取代;或R5及R6与和其等附接之N-原子一起形成一杂芳香族环系统,该杂芳香族环系统系未经取代或以一或多数之C1-C20烷基、C1-C4卤烷基、C1-C20烷氧基、=O、SR4、OR3、NR17R18、(CO)R19、、卤素、NO2、CN、苯基,或选择性以O、S、CO或NR3间断之C3-C20环烷基取代;R”1具有如对于R1所示意义之一;R”2具有如对于R2所示意义之一;R7系氢、C1-C20烷基;以卤素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH,或(CO)O(C1-C4烷基)取代之C1-C8烷基;或R7系以一或多数O间断之C2-C12烷基;或R7系(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基,或C3-C8环烷基;或R7系苯基、联苯基、萘基,或C1-C20杂芳基,其每一者系选择性以一或多数之C1-C20烷基、卤素、C1-C12卤烷基、CN、NO2、OR3、SR4、SOR4、SO2R4,或NR5R6取代,其中,该等取代基OR3、SR4或NR5R6选择性地经由R3、R4、R5及/或R6基与该苯基、联苯基、萘基,或C1-C20杂芳基环之碳原子之一形成5-或6-成员之环;R8与R9及R’8与R’9彼此独立地系氢、C1-C12烷基,其选择性以一或多数之卤素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)取代;或R8与R9及R’8与R’9系苯基,其选择性地以一或多数之C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4或NR5R6取代;或R8与R9及R’8与R’9系卤素、CN、OR3、SR4、SOR4、SO2R4或NR5R6,其中,该等取代基OR3、SR4或NR5R6选择性地经由R3、R4、R5及/或R6基与该苯基之该等碳原子之一或与该取代基R7或与M3之该萘撑基或苯撑基之该等碳原子之一形成5-或6-成员之环;或R8与R9及R’8与R’9一起系或;R10、R11、R12及R13彼此独立地系氢、C1-C12烷基,其系选择性以一或多数之卤素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)取代;或R10、R11、R12及R13系苯基,其选择性地以一或多数之C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4或NR5R6取代;或R10、R11、R12及R13系卤素、CN、OR3、SR4或NR5R6;R14及R15彼此独立地系氢、C1-C12烷基,其系选择性地以一或多数之卤素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)取代;或R14及R15系苯基,其系选择性地以一或多数之C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4或NR5R6取代;R17及R18彼此独立地系氢、C1-C20烷基、C1-C4卤烷基、C3-C10环烷基,或苯基;或R17及R18与和其等附接之N-原子一起形成一5-或6-成员之饱和或不饱和之环,其选择性地以O、S或NR24间断;或R17及R18彼此独立地系C2-C5烷撑基或C2-C5烯撑基,其系附接至与NR17R18附接之苯基或萘基环之C-原子之一,其中,该C2-C5烷撑基或C2-C5烯撑基选择性地以O、CO或NR24间断,且C2-C5烷撑基或C2-C5烯撑基系选择性地与一苯环缩合;R19系氢、OH、C1-C20烷基、C1-C4卤烷基、以O、CO或NR24间断之C2-C20烷基、选择性以O、S、CO或NR24间断之C3-C20环烷基,或系苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、SR4、OR3或NR17R18;R20系COOR3、CONR5R6、(CO)R1;或R20具有如对于R5及R6所示意义之一;R21系COOR3、CONR5R6、(CO)R1;或R21具有如对于R3所示意义之一;R22系氢、C1-C20烷基;C2-C20烯基;选择性以O、S、CO或NR5间断之C3-C20环烷基,或系C3-C10环烯基;或系以一或多数之卤素、SR4、OR3、COOR3、NR5R6、C1-C20杂芳基、C1-C20杂芳基-(CO)O、CONR5R6、或苯基取代之C1-C20烷基;或R22系以一或多数之O间断及/或选择性以一或多数之卤素、SR4OR3、COOR3、NR5R6、C1-C20杂芳基、C1-C20杂芳基-(CO)O、CONR5R6、或苯基取代之C2-C20烷基;或R22系苯基、萘基、香豆素基,或C1-C20杂芳基,其每一者系选择性以一或多数之C1-C12烷基、苯基、卤素、C1-C4卤烷基、CN、NO2、SR4、OR3、NR5R6或选择性以O、CO或NR5间断之C3-C20环烷基取代;或R22系C2-C20烷醯基,或苯甲醯基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、卤素、苯基、SR4、OR3或NR5R6取代;或R22系C2-C12烷氧基羰基,其系选择性以一或多数之O间断及/或选择性以一或多数之OH取代;或R22系苯氧基羰基,其系未经取代或以一或多数之C1-C6烷基、C1-C4卤烷基、卤素、苯基、SR4、OR3或NR5R6取代;或R22系NR5R6;或R22与和基附接之该苯基环之该等C-原子之一形成一环,其中,该形成之环系未经取代或经取代;R23具有如对于R1所示意义之一;且R24系氢、C1-C20烷基、C1-C4卤烷基、以O、S或CO间断之C2-C20烷基,或系苯基-C1-C4烷基、选择性以O、S或CO间断之C3-C20环烷基,或系苯基。
地址 瑞士