发明名称 |
检查方法和设备 |
摘要 |
本发明公开了一种检查方法和设备。具体地,在一方面中,公开一种用于探测物体上存在缺陷或不存在缺陷的检查方法,所述物体包括具有物理深度的凹陷。所述方法包括:将辐射引导到所述物体上,所述辐射具有基本上等于所述凹陷的光学深度的两倍的波长;探测被所述物体或所述物体上的缺陷改变方向的辐射;和由所述改变方向的辐射确定存在缺陷或不存在缺陷。 |
申请公布号 |
CN101995408B |
申请公布日期 |
2014.12.31 |
申请号 |
CN201010262277.3 |
申请日期 |
2010.08.19 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
A·J·邓波埃夫;V·Y·班尼恩;S·F·乌伊斯特尔;L·斯卡克卡巴拉兹 |
分类号 |
G01N21/956(2006.01)I;G03F1/84(2012.01)I |
主分类号 |
G01N21/956(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种用于探测物体上存在缺陷或不存在缺陷的检查方法,所述物体包括具有物理深度的凹陷,所述方法包括步骤:将辐射引导到所述物体上,所述辐射具有基本上等于所述凹陷的光学深度的两倍的波长;探测被所述物体或所述物体上的缺陷改变方向的辐射;和由所述改变方向的辐射的强度分布或强度分布的改变确定存在缺陷或不存在缺陷,所述缺陷是除所述凹陷之外的缺陷且具有不同于凹陷的光学深度的光学深度。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |