亲水性多孔基底

摘要

本发明公开了亲水性多孔基底、由疏水性聚合物制备亲水性多孔基底的方法。所述方法包括以下步骤：1)提供具有间隙和外部表面的多孔基体基底；2)用第一溶液饱和所述多孔基体基底，所述第一溶液包含(a)至少一种具有至少一个(甲基)丙烯酸酯基团和至少一个另外的烯键式不饱和可自由基聚合的基团的接枝单体；和任选地(b)一种或多种具有至少一个烯键式不饱和可自由基聚合的基团和亲水性基团的另外的单体；以及任选的链转移剂，其中(a)和/或(b)单体中的至少一者为亲水性的；3)将所述饱和多孔基体基底暴露于受控量的γ辐射中，以形成第一官能化基底，所述第一官能化基底包括连接在所述多孔基体基底表面上的接枝聚合物。

主权项

一种制造官能化基底的方法，所述方法包括以下步骤：1)提供具有间隙和外部表面的多孔基体基底；2)用第一溶液饱和所述多孔基体基底，所述第一溶液包含(a)至少一种具有至少一个(甲基)丙烯酸酯基团和至少一个另外的烯键式不饱和可自由基聚合的基团的接枝单体；和(b)一种或多种具有至少一个烯键式不饱和可自由基聚合的基团和亲水性基团的另外的单体；以及链转移剂，其中(a)和/或(b)单体中的至少一者为亲水性的；和其中所述第一溶液包含：1重量％至10重量％的(a)单体；1重量％至10重量％的(b)单体；基于100重量份的总单体混合物计0.02重量份至0.15重量份的链转移剂；和溶剂；3)将所述饱和多孔基体基底暴露于受控量的γ辐射中，以便形成第一官能化基底，所述第一官能化基底包括连接在所述多孔基体基底表面上的接枝聚合物，其中所述受控量的γ辐射的暴露包括1至15kGy的剂量，并且剂量率在0.0005kGy/秒至0.005kGy/秒的范围内。