发明名称 SINGLE WAFER TYPE CLEANING APPARATUS
摘要 <p>간단한 구조로 회전지지부의 구동을 정지시킬 수 있는 매엽식 세정장치가 개시된다. 개시된 본 발명에 의한 매엽식 세정장치는, 기판의 세정공간을 제공하는 세정챔버, 기판에 세정제를 분사하는 분사노즐, 세정챔버 내외로 기판을 이동시킴과 아울러, 기판을 회전시키는 회전지지부 그리고, 세정챔버 외부에서 상기 회전지지부의 구동을 정지시키는 정지부를 포함한다. 이와 같은 구성에 의하면, 세정챔버의 외부에서 정지부가 회전지지부를 정지시킴으로써, 간단한 구조로 회전지지부의 구동을 정지시킬 수 있게 된다.</p>
申请公布号 KR101478148(B1) 申请公布日期 2014.12.31
申请号 KR20080089246 申请日期 2008.09.10
申请人 发明人
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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