一种基于SLiM-Cut技术制备超薄硅片的方法

摘要

一种基于SLiM-Cut技术制备超薄硅片的方法，在硅衬底上印上一层厚度为20μm青铜浆层，干燥后放入快速退火炉，加热到720℃之后，保温10秒，然后停火冷却；取出后在硅衬底上青铜层的表面印制厚度为40μm的锌浆层，干燥后放入快速退火炉中，加热到720℃之后，保温10秒，然后停火冷却，使硅衬底表面与青铜层相结合的硅层从硅衬底上剥离；放入化学蚀刻液中，将锌层和青铜层腐蚀溶解，取出剩余的硅层，清洗后晾干，即得到厚度为30-50μm的超薄硅片。本方案退火温度较低，降低了能源消耗；以青铜和锌为丝印层，均为传统的材料，便于进行大规模化生产，利于降低成本。

主权项

一种基于SLiM‑Cut技术制备超薄硅片的方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）、取大小为5×5 cm²的硅片作为衬底；（2）、将硅衬底水平放置，在其上表面通过丝网印刷的方法印上一层厚度为20μm青铜浆层；（3）、然后将印有青铜浆层的硅衬底放置在200℃的条件下，使青铜浆层干燥，形成青铜层；（4）、将附有干燥后青铜层的硅衬底放入快速退火炉中，加热到720 ℃之后，保温10秒，然后停火，风冷冷却；（5）、将步骤（4）冷却后的硅衬底取出，设有青铜层的一面朝上放置，通过丝网印刷的方法在硅衬底上青铜层的表面印制厚度为40μm的锌浆层，然后在200℃的条件下，使锌浆层干燥，形成锌层；（6）、将步骤（5）的硅衬底制备有锌层的一面朝上放入快速退火炉中，加热到720 ℃之后，保温10秒，然后停火，风冷冷却，在冷却过程中利用不同材料热膨胀系数的差异，通过锌层的收缩，使硅衬底表面与青铜层相结合的硅层从硅衬底上剥离；（7）、将锌层、青铜层和附着在青铜层上的硅层一同从硅衬底上剥离，然后放入化学蚀刻液中，将锌层和青铜层腐蚀溶解，取出剩余的硅层，清洗后晾干，即得到厚度为30‑50μm的超薄硅片。