发明名称 Vakuumkammer einer Durchlauf-Substratbehandlungsanlage und Verfahren zu deren Betrieb
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine Vakuumkammer einer Durchlauf-Substratbehandlungsanlage und ein Verfahren zum Betrieb einer solchen Anlage, wobei die Vakuumkammer eine Transportrollen 8 umfassende Transporteinrichtung zum Transportieren eines Substrats 6 in einer Substratebene 5 durch die Vakuumkammer und einen Vakuumzugang zur Evakuierung der Vakuumkammer umfasst. Um eine Verkürzung der Evakuierungszeit mit wartungsfreundlichen und variablen sowie nachrüstbaren Mittel zu erzielen, in der Vakuumkammer ein- oder beidseits der Substratebene 5 und benachbart zur Transporteinrichtung zumindest ein vakuumdichter Füllkörper 18 zur Reduzierung des zu evakuierenden Volumens angeordnet.</p>
申请公布号 DE102013106735(A1) 申请公布日期 2014.12.31
申请号 DE201310106735 申请日期 2013.06.27
申请人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH 发明人 DSAAK, TORSTEN;HOFMANN, MICHAEL;MOSSHAMMER, STEFFEN;MEYER, THOMAS;SMOLKE, MATTHIAS
分类号 C23C14/56;C23C16/54 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人
主权项
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