发明名称 一种化学镀Ni-P镀层的晶化处理方法
摘要 一种化学镀Ni-P镀层的晶化处理方法,属于材料表面改性处理领域。本发明利用激光热效应对化学镀Ni-P镀层进行晶化处理,使其物相由非晶态向晶态转变,析出Ni<sub>3</sub>P硬化相,提高镀层硬度和耐磨性能,属于材料表面改性处理领域。其特征在于:利用激光作为热源,Ni-P镀层吸收激光的能量,温度可以精确控制。在激光热辐射处理过程中,在350℃时Ni<sub>3</sub>P相开始形成,由于Ni<sub>3</sub>P相的形成造成P含量降低,故Ni<sub>3</sub>P相的进一步生成是依靠周围P原子的扩散来补充,镀层表面激光高能密度加快了P原子的扩散速率,在400℃时Ni<sub>3</sub>P相又重新生成,其在XRD谱线上表现为Ni<sub>3</sub>P特征峰更趋于明显,而对于单质镍,在整个热处理过程中,其结晶度是随温度提高和时间延长而不断的得到完善。
申请公布号 CN102877045B 申请公布日期 2014.12.31
申请号 CN201210380852.9 申请日期 2012.10.10
申请人 常州大学 发明人 孔德军;王文昌;吴永忠;付贵忠;陈建栋;龙丹;张垒
分类号 C23C18/32(2006.01)I 主分类号 C23C18/32(2006.01)I
代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人 楼高潮
主权项 一种化学镀Ni‑P镀层的晶化处理方法,包括对ZL113铝合金进行化学镀形成Ni‑P镀层的步骤和对Ni‑P镀层进行晶化处理的步骤,其特征在于:对Ni‑P镀层进行晶化处理的步骤为:利用激光作为热源,对Ni‑P镀层表面进行晶化处理,通过镀层对激光能量的吸收和热扩散,引起物体边界上和内部的热流运动,控制晶化温度为350‑400℃,产生固相晶化反应,弥散析出的Ni<sub>3</sub>P相,使镀层硬度由340‑350HV提高到490‑505HV;所述激光的工艺参数为:激光功率为650W,光斑直径Ф2mm,重叠率为50%,扫描速度为0.5m/min,保护气体为氩气;利用激光作为热源,Ni‑P镀层吸收激光的能量,温度可以精确控制;在激光热辐射处理过程中,在350℃时Ni<sub>3</sub>P相开始形成,由于Ni<sub>3</sub>P相的形成造成P含量降低,故Ni<sub>3</sub>P相的进一步生成是依靠周围P原子的扩散来补充,镀层表面激光高能密度加快了P原子的扩散速率,在400℃时Ni<sub>3</sub>P相又重新生成,其在XRD谱线上表现为Ni<sub>3</sub>P特征峰更趋于明显;而对于单质镍,在整个热处理过程中,其结晶度是随温度提高和时间延长而不断的得到完善。
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