发明名称 PHOTOSENSITIVE SILICONE RESIN COMPOSITION
摘要 후막이어도 크랙 내성이 양호하고, 저 선팽창 계수, 저 열중량 감소 및 저수축률을 유지할 수 있는 광경화 수지 경화물을 제공하는 수지 조성물을 제공한다. 본 발명에 따른 감광성 실리콘 수지 조성물은, 실리카 입자 함유 축합 반응물(A)과 광중합 개시제(B)를 포함하는 감광성 실리콘 수지 조성물로서, 이 실리카 입자 함유 축합 반응물(A)은, 하기 일반식 (1): RSiX{식중, R, n1, X은 청구항에서 정의.}로 표시되는 1 종류 이상의 실란 화합물의 가수 분해 축합 생성물을 포함하는 폴리실록산 화합물(a) 및/또는 상기 실란 화합물과, 실리카 입자(b)의 축합 반응물이며, 말단 구조 Si-O-Y(식중, Y는 청구항에서 정의.)는, 이하 식 (2): 0<[Si-O-SiR]/([Si-O-R]+[Si-O-SiR])&le;1{식중, R와 R은 청구항에서 정의.}를 만족시키고, 광중합성 작용기를 갖는 것을 특징으로 한다.
申请公布号 KR101478928(B1) 申请公布日期 2014.12.31
申请号 KR20137003149 申请日期 2011.06.15
申请人 发明人
分类号 C08F299/08;C08G77/20;C08L83/06;G03F7/075 主分类号 C08F299/08
代理机构 代理人
主权项
地址