| 摘要 |
<p>위치 어긋남을 해소하기 위해 정밀하게 위치를 계측하는 것이 가능한 묘화 장치를 제공한다. 묘화 장치(100)는, 묘화 대상 기판의 위치를 계측하는 레이저 변위계(53)와, 레이저 변위계에 의해 계측된 기판의 위치에 관해, 기판의 기준 위치로부터의 위치 어긋남량을 보정하는 보정부와, 하전 입자빔을 이용하여, 위치 어긋남량이 보정된 기판 상에 패턴을 묘화하는 묘화부(150)를 구비한 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 의하면, 위치 어긋남을 해소하기 위해 정밀하게 위치를 계측할 수 있다.</p> |
