发明名称 |
光学材料用永久膜的制造方法、利用所述方法制作的硬化膜、使用所述硬化膜的有机EL显示装置及液晶显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种光学材料用永久膜的制造方法,其对感光性树脂组合物进行曝光并将所述曝光部去除,使其剩余部分硬化而制成永久膜,并且上述感光性树脂组合物含有(A)特定交联性聚合物、(B)1,2-醌二叠氮化合物及(C)溶剂,通过移相部的透射率为0.1%以上、50%以下的半色调相位差掩模,对所述感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线及i射线中的活性放射线,对上述树脂进行曝光。 |
申请公布号 |
CN104254806A |
申请公布日期 |
2014.12.31 |
申请号 |
CN201380021805.8 |
申请日期 |
2013.04.25 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
佐竹亮;安藤豪;山下史绘;中村秀之 |
分类号 |
G03F7/023(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;G03F1/32(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/22(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/023(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种光学材料用永久膜的制造方法,其为对感光性树脂组合物进行曝光并将所述曝光部分去除,使其剩余部分硬化而制成永久膜的光学材料用永久膜的制造方法,并且所述感光性树脂组合物含有(A)特定交联性聚合物、(B)1,2‑醌二叠氮化合物及(C)溶剂,所述特定交联性聚合物(A)为(A‑1)含有结构单元(a)及结构单元(b)的共聚物,所述结构单元(a)为具有羧基的结构单元或具有酚性羟基的结构单元,所述结构单元(b)具有交联基;或(A‑2)含有结构单元(a)的聚合物与含有结构单元(b)的聚合物的组合,所述结构单元(a)为具有羧基的结构单元或具有酚性羟基的结构单元,所述结构单元(b)具有交联基,通过移相部的透射率为0.1%以上、50%以下的半色调相位差掩模,对所述感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线及i射线中的活性放射线,对所述树脂进行曝光。 |
地址 |
日本东京港区西麻布二丁目26番30号 |