GaAs基含B高应变量子阱及其制备方法、半导体激光器

摘要

本发明涉及半导体光电子材料与器件领域，公开了一种GaAs基含B高应变量子阱的制备方法，包括步骤：S1、在GaAs衬底上生长GaAs缓冲层；S2、在所述GaAs缓冲层的顶部生长高应变阱层，生长过程中通入B源形成含B高应变阱层；S3、在所述含B高应变阱层上生长GaAs垒层或应变补偿垒层，形成GaAs基含B高应变量子阱。本发明还公开了一种GaAs基含B高应变量子阱以及一种边发射半导体激光器。本发明通过将B并入到InGaAs或GaAsSb中补偿In、Sb并入GaAs导致的晶格常数变大，从而实现对晶格失配度的调控；通过将B并入到InGaAs或GaAsSb中降低高应变InGaAs或GaAsSb的表面能，从而进一步拓展InGaAs/GaAs和GaAsSb/GaAs高应变量子阱的发光波长；通过对含B高应变阱层进行应变补偿，从而提高量子阱的光学质量。

主权项

一种GaAs基含B高应变量子阱的制备方法，包括以下步骤：S1、在GaAs衬底上生长GaAs缓冲层；S2、在所述GaAs缓冲层顶部生长高应变阱层，生长过程中通入B源以形成含B高应变阱层，所述含B高应变阱层的材料为BGaAsSb，且Sb的组分大于或等于30％；S3、在所述含B高应变阱层上生长应变补偿垒层或GaAs垒层，以形成GaAs基含B高应变量子阱。