一种TiNi合金表面制备金刚石涂层的方法

摘要

本发明公开了一种TiNi合金表面制备金刚石涂层的方法，属于TiNi合金表面沉积金刚石薄膜的方法，解决TiNi合金由于Ni含量较高无法生长金刚石的问题。包括以下步骤：利用双层辉光离子渗金属方法在TiNi合金表面渗钼，然后利用化学气相沉积方法进行金刚石薄膜沉积，使TiNi合金表面形成金刚石薄膜/渗钼层复合涂层。本发明将双层辉光离子渗金属技术和化学气相沉积镀技术有机结合，工艺重复性好，质量易控，操作简单，所制得的成品性能良好，金刚石薄膜能够与基体有良好的结合强度，并获得基体有效的支撑。

主权项

一种TiNi合金表面制备金刚石涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：利用双层辉光离子渗金属方法在TiNi合金表面渗钼，然后利用化学气相沉积方法进行金刚石薄膜沉积，使TiNi合金表面形成金刚石薄膜/渗钼层复合涂层，即得成品；    所述的利用双层辉光离子渗金属方法在TiNi合金表面渗钼是首先将TiNi合金置入双层辉光离子渗金属炉，溅射靶材选用钼板，靶材和TiNi合金采用竖直悬挂设置，间距为20mm，工作气体为高纯氩气；溅射完成后，对TiNi合金表面进行基材溅射清理，工艺参数为：工作气压20±5Pa，基材工作电压400～700V，清理时间0.5h；最后对TiNi合金表面进行渗钼，工艺参数为：工作气压40±5Pa，溅射靶电压600～800V，基材工作电压250～450V，试样温度900～950℃，保温时间2～3h，得到表面渗钼的TiNi合金基材；所述的利用化学气相沉积方法进行金刚石薄膜沉积，是将上述表面渗钼的TiNi合金基材置于反应室，反应气体为CH₄与H₂，其中CH₄体积含量为0.5%～1.5%，气体压力7～9KPa，沉积温度700～900℃，沉积时间1～5h，即得成品。