| 发明名称 | 负型感光性硅氧烷组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，无需进行曝光后加热而进行显影，从而获得固化膜。 | ||
| 申请公布号 | CN104254807A | 申请公布日期 | 2014.12.31 |
| 申请号 | CN201380018124.6 | 申请日期 | 2013.04.05 |
| 申请人 | AZ电子材料（卢森堡）有限公司 | 发明人 | 横山大志;能谷敦子;田代裕治;吉田尚史;田中泰明;福家崇司;高桥惠;谷口克人;野中敏章 |
| 分类号 | G03F7/075(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/075(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 一种负型感光性硅氧烷组合物，其特征在于包含：聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。 | ||
| 地址 | 卢森堡卢森堡 | ||