采用电磁加热的CVD设备

摘要

本发明涉及半导体生产设备的设计领域，尤其涉及采用电磁加热的CVD设备。本发明提供采用电磁加热的CVD设备，通过设置与传输带配合的滚筒组，达到壳体与传输带之间动态的密封效果；通过设置供惰性气体进入的进气口和离开的排气口达到避免放置于所述传输带上的待镀膜材料与空气发生化学反应；通过采用移动的电磁混合装置，使得整个电磁混合装置的设计得以实现微型化。本发明具有占用空间小，成本低廉的特点。

主权项

采用电磁加热的CVD设备，包括一壳体，其特征在于：所述壳体横向两侧分别设有供放置待镀膜材料的传输带通过的入口和出口，且所述传输带将所述壳体分隔成上腔与下腔，所述壳体内入口和出口处分别设有动态夹持所述传输带并带动其移动的滚筒组，各所述滚筒组包括贴设于传输带上侧的上滚筒和贴设于传输带下侧的下滚筒；各所述上滚筒和下滚筒的表面设有弹性层，各所述上滚筒和下滚筒的两端部表面相互弹性按压，各所述上滚筒和下滚筒之间具有供所述传输带通过的间隙，且各所述上滚筒和下滚筒与所述传输带之间相互弹性按压；所述壳体上还设有驱动所述滚筒组运转的第一伺服电机；所述壳体上开设有供惰性气体进入的进气口和排出的排气口，所述下腔内设有移动的电磁混合装置，所述电磁混合装置具有一朝向所述传输带并喷射工作气体的喷气嘴。