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<p>본 발명의 일태양의 하전 입자빔 묘화 장치는, 동일 위치에 샷하는 복수회의 하전 입자빔의 총 조사 시간(n)을 위치를 이동시키면서 다중 묘화를 행하는 복수의 다중 묘화 단위 영역의 다중 묘화 단위 영역수(m)와 다중 묘화 단위 영역마다의 위치를 이동시키지 않고 반복 다중 묘화를 행하는 반복수(r)를 곱한 값으로 나눈 정수값에 반복수(r)를 곱한 값에, 복수의 다중 묘화 단위 영역 중 미리 설정된 특정의 다중 묘화 단위 영역이 아닌 다중 묘화 단위 영역으로서 특정의 다중 묘화 단위 영역을 제외한 다중 묘화 단위 영역 번호가 총 조사 시간(n)을 다중 묘화 단위 영역수(m)와 반복수(r)를 곱한 값으로 나누었을 경우의 제1 나머지를 반복수(r)로 더 나눈 값 이하인 다중 묘화 단위 영역의 경우에는 반복수(r)를 가산한 값을, 복수의 다중 묘화 단위 영역 중 미리 설정된 특정의 다중 묘화 단위 영역이 아닌 다중 묘화 단위 영역으로서 특정의 다중 묘화 단위 영역을 제외한 다중 묘화 단위 영역 번호가 제1 나머지를 반복수(r)로 나눈 값 이하가 아닌 다중 묘화 단위 영역의 경우에는 아무것도 가산하지 않은 값을, 복수의 다중 묘화 단위 영역 중 미리 설정된 특정의 다중 묘화 단위 영역의 경우에는 총 조사 시간(n)을 반복수(r)로 나누었을 경우의 제2 나머지를 가산한 값을, 동일 위치에 샷하는 복수회의 하전 입자빔 중 당해 다중 묘화 단위 영역에서의 하전 입자빔의 합계 조사 시간으로서 산출하는 합계 조사 시간 산출부와 다중 묘화 단위 영역마다, 해당하는 합계 조사 시간이 되도록 하전 입자빔을 조사하여 시료에 패턴을 묘화하는 묘화부를 구비한 것을 특징으로 한다.</p> |
