| 发明名称 | 导电结构及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种包括暗色图案的导电结构，所述导电结构包括基板、导电图案和CuOx(0＜x≤1)；以及用于制造所述导电结构的方法。所述导电结构能够防止由导电图案造成的反射而不影响导电图案的导电性，并且通过提高吸光度能够改善导电图案被隐匿的能力。因此，使用所述导电结构能够开发显示面板并改善该显示面板的可见性。 | ||
| 申请公布号 | CN104246913A | 申请公布日期 | 2014.12.24 |
| 申请号 | CN201380004731.7 | 申请日期 | 2013.04.18 |
| 申请人 | LG化学株式会社 | 发明人 | 林振炯;金秀珍;章盛皓;金起焕;金忠完 |
| 分类号 | H01B5/14(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I | 主分类号 | H01B5/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人 | 朱梅;张皓 |
| 主权项 | 一种导电结构体，其包括：基板；设置在所述基板上的导电图案；和设置在所述导电图案的至少一个表面上并包含CuOx(0<x≤1)的暗化图案，其中，所述导电图案具有10μm以下的线宽，所述暗化图案具有20nm至60nm的厚度，并且所述导电结构体在可见光区域内具有2至3的平均折射率和0.2至1.5的平均消光系数(k)。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||