发明名称 一种蚀刻液及其应用
摘要 本发明公开了一种蚀刻液及其应用,含有氯化铁或氯化铜、无机过氧化物或有机过氧化物、弱有机酸、弱无机酸或酸性缓冲剂,络合剂以及含硫化合物。本发明的蚀刻液用于在有贵金属金、银、铂等得镀层存在的条件下,蚀刻铁、钴、镍、铜、铝、锡等贱金属及这些元素的合金。蚀刻可在常温或较低的温度下进行。所得的蚀刻表面的光亮度好,侧蚀少。
申请公布号 CN104233302A 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201410466718.X 申请日期 2014.09.15
申请人 南通万德科技有限公司 发明人 韩辉升;王振兴;黄诚
分类号 C23F1/44(2006.01)I;C23F1/46(2006.01)I 主分类号 C23F1/44(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种蚀刻液,其特征在于:包含有2‑20wt%无机铜(II)盐或无机铁(III)盐;1‑20wt%的无机过氧化物或有机过氧化物;1‑25wt%的弱有机酸、弱无机酸、酸性的无机盐或、含弱酸的pH缓冲剂或0.1‑5wt%的强酸。
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