Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht

摘要

Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht auf einem Substrat (10) angegeben, umfassend die Verfahrensschritte:–Erzeugung einer ersten Nanostruktur (11) in einem ersten Material mit einem ersten Plasmaätzprozess, wobei das erste Material das Material des Substrats (10) oder das Material einer auf das Substrat (10) aufgebrachten Schicht (1) aus einem ersten organischen Material ist,–Aufbringen einer Schicht (2) aus einem zweiten Material auf die erste Nanostruktur (11), wobei das zweite Material ein organisches Material ist, und–Erzeugung einer zweiten Nanostruktur (12) in der Schicht (2) aus dem zweiten Material mit einem zweiten Plasmaätzprozess, wobei das zweite Material bei der Durchführung des zweiten Plasmaätzprozesses eine größere Ätzrate als das erste Material aufweist.