| 发明名称 | 蚀刻液组合物和蚀刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及蚀刻液组合物和蚀刻方法。[课题]本发明的目的在于提供蚀刻液组合物和使用其的蚀刻方法，在将包含钛系膜和铜系膜的层叠膜的一起蚀刻中，可得到期望宽度的细线，另外，可得到优选的剖面形状的细线。[解决手段]本发明涉及一种蚀刻液组合物，其用于将包含钛系膜和铜系膜的层叠膜一起蚀刻，其特征在于，包括水溶液，所述水溶液含有：(A)过氧化氢：0.1～15质量％；(B)氟离子供给源：0.02～2质量％；(C)有机羧酸：5～60质量％；和(D)选自唑系化合物和在结构中具有含1个以上氮原子且含3个双键的6元杂环的化合物中的至少1种化合物：0.01～5质量％。 | ||
| 申请公布号 | CN104233299A | 申请公布日期 | 2014.12.24 |
| 申请号 | CN201410269845.0 | 申请日期 | 2014.06.17 |
| 申请人 | 株式会社ADEKA | 发明人 | 石崎隼郎;大宫大辅 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;C23F1/44(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 吴宗颐 |
| 主权项 | 蚀刻液组合物，其用于将包含钛系膜和铜系膜的层叠膜一起蚀刻，其特征在于，包括水溶液，所述水溶液含有：(A)过氧化氢：0.1～15质量％；(B)氟离子供给源：0.02～2质量％；(C)有机羧酸：5～60质量％；和(D)选自唑系化合物和在结构中具有含1个以上氮原子且含3个双键的6元杂环的化合物中的至少1种化合物：0.01～5质量％。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||