发明名称 |
一种原子层沉积设备及方法 |
摘要 |
本发明提供了原子层沉积设备及方法,在原子层沉积设备中设置了远程等离子体发生器,用于产生远程等离子体;并与之配合在反应腔的腔体上设置了远程等离子体入口;以及设置了远程等离子体管道,将远程等离子体发生器和远程等离子体入口相连通,将从远程等离子体发生器出来的远程等离子体输送至远程等离子体入口处。在原子层沉积过程中,使原子层沉积和远程等离子体去除杂质的过程循环进行,从而使每次沉积的原子层表面均可以得到清洁,从而减少原子层沉积过程中的杂质缺陷,提高原子层薄膜的洁净度;并且,利用远程等离子体可以避免对原子层以及硅片造成损伤;本发明原子层沉积设备,可以在现有的原子层沉积设备上进行改进,降低了更换设备的成本。 |
申请公布号 |
CN104233227A |
申请公布日期 |
2014.12.24 |
申请号 |
CN201410487817.6 |
申请日期 |
2014.09.23 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
钟斌 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 |
代理人 |
吴世华;林彦之 |
主权项 |
一种原子层沉积设备,包括反应腔、供气口和供气管道、抽真空装置,其特征在于,所述原子层沉积设备还包括:远程等离子体发生器,用于产生远程等离子体;远程等离子体入口,设置于所述反应腔的腔体上,用于向所述反应腔中输入远程等离子体;远程等离子体管道,将所述远程等离子体发生器和所述远程等离子体入口相连,用于将从所述远程等离子体发生器出来的远程等离子体输送至所述远程等离子体入口处。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |