发明名称 双绝缘层有机薄膜晶体管
摘要 一种双绝缘层有机薄膜晶体管,包括最底层的n型硅基片层,n型硅基片层上热生长一层二氧化硅薄膜层,二氧化硅薄膜层上旋涂一层聚甲基丙烯酸甲酯层,聚甲基丙烯酸甲酯层上真空蒸发沉积一层酞菁铜层,酞菁铜层上方蒸发沉积一层金电极层,其中二氧化硅薄膜层的厚度为200-220nm,聚甲基丙烯酸甲酯层的厚度为40-50nm,酞菁铜层的厚度为30-40nm,金电极层包括源极和漏极,沟道长度为0.03-0.04mm,沟道宽度为4-7mm。采用上述技术方案,器件载流子迁移率高,漏电电流小,阈值电压较高,整个器件的性能得到较大改善。
申请公布号 CN204045636U 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201420425402.1 申请日期 2014.07.30
申请人 河北工程大学 发明人 李晓霞;张培军;赵强;贾海亮
分类号 H01L51/05(2006.01)I;H01L51/10(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I 主分类号 H01L51/05(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种双绝缘层有机薄膜晶体管,包括最底层的n型硅基片层(1),其特征是n型硅基片层(1)上热生长一层二氧化硅薄膜层(2),二氧化硅薄膜层(2)上旋涂一层聚甲基丙烯酸甲酯层(3),聚甲基丙烯酸甲酯层(3)上真空蒸发沉积一层酞菁铜层(4),酞菁铜层(5)上方蒸发沉积一层金电极层,其中二氧化硅薄膜层(2)的厚度为200‑220nm,聚甲基丙烯酸甲酯层(3)的厚度为40‑50nm,酞菁铜层(4)的厚度为30‑40nm,金电极层包括源极(5)和漏极(6),沟道长度为0.03‑0.04mm,沟道宽度为4‑7mm。
地址 056000 河北省邯郸市光明南大街199号