发明名称 |
双绝缘层有机薄膜晶体管 |
摘要 |
一种双绝缘层有机薄膜晶体管,包括最底层的n型硅基片层,n型硅基片层上热生长一层二氧化硅薄膜层,二氧化硅薄膜层上旋涂一层聚甲基丙烯酸甲酯层,聚甲基丙烯酸甲酯层上真空蒸发沉积一层酞菁铜层,酞菁铜层上方蒸发沉积一层金电极层,其中二氧化硅薄膜层的厚度为200-220nm,聚甲基丙烯酸甲酯层的厚度为40-50nm,酞菁铜层的厚度为30-40nm,金电极层包括源极和漏极,沟道长度为0.03-0.04mm,沟道宽度为4-7mm。采用上述技术方案,器件载流子迁移率高,漏电电流小,阈值电压较高,整个器件的性能得到较大改善。 |
申请公布号 |
CN204045636U |
申请公布日期 |
2014.12.24 |
申请号 |
CN201420425402.1 |
申请日期 |
2014.07.30 |
申请人 |
河北工程大学 |
发明人 |
李晓霞;张培军;赵强;贾海亮 |
分类号 |
H01L51/05(2006.01)I;H01L51/10(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/05(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种双绝缘层有机薄膜晶体管,包括最底层的n型硅基片层(1),其特征是n型硅基片层(1)上热生长一层二氧化硅薄膜层(2),二氧化硅薄膜层(2)上旋涂一层聚甲基丙烯酸甲酯层(3),聚甲基丙烯酸甲酯层(3)上真空蒸发沉积一层酞菁铜层(4),酞菁铜层(5)上方蒸发沉积一层金电极层,其中二氧化硅薄膜层(2)的厚度为200‑220nm,聚甲基丙烯酸甲酯层(3)的厚度为40‑50nm,酞菁铜层(4)的厚度为30‑40nm,金电极层包括源极(5)和漏极(6),沟道长度为0.03‑0.04mm,沟道宽度为4‑7mm。 |
地址 |
056000 河北省邯郸市光明南大街199号 |