处理衬底的方法

摘要

本发明提供一种处理衬底的方法，其包含：将第一衬底对齐以具有第一衬底起始位置，从而允许在第一衬底上形成的对齐标记与预设参考点匹配；将激光束辐射到第一衬底的结晶目标区域并且在第一衬底往复运动的同时形成结晶图案；取决于第一衬底的结晶图案的边缘与对齐标记的中心点之间的距离计算校正偏差并且计算通过反映校正偏差获得的校正参考点；以及，在将第一衬底放置到外部后，对齐第二衬底以允许将第二衬底的对齐标记放置到腔室中以与校正参考点匹配。

主权项

一种处理衬底的方法，所述方法包括：将第一衬底对齐以具有第一衬底起始位置，从而允许在所述第一衬底上形成的对齐标记与预设的参考点匹配；将激光束辐射到所述第一衬底的结晶目标区域并且在所述第一衬底往复运动的同时形成结晶图案；取决于所述第一衬底的所述结晶图案的边缘与所述对齐标记的中心点之间的距离计算校正偏差并且计算通过反映所述校正偏差获得的校正参考点；以及在将所述第一衬底放置到外部后，对齐第二衬底以允许将所述第二衬底的对齐标记放置到腔室中以与所述校正参考点匹配。