发明名称 LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF CLAMPING AND WAFER TABLE
摘要 <p>본 발명은 예를 들어 웨이퍼와 같은 타겟(1) 상에 이미지 또는 이미지 패턴을 투사하기 위한 리소그래피 시스템에 관한 것이고, 상기 타겟은 타겟 테이블(2)에 의해 상기 시스템 내에 포함되고, 상기 테이블 상에 상기 타겟을 클램핑하기 위한 클램핑 수단이 제공된다. 상기 클램핑 수단은 타겟(1) 및 타겟 테이블(2)의 각각의 접촉면(A, B)의 재료 및 액체(C)의 재료가 제공되면 압력 강하(P)가 발생하는 타겟과 타겟 테이블 사이의 이러한 두께에 포함된 고정 액체(3)의 층을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101476950(B1) 申请公布日期 2014.12.24
申请号 KR20137025226 申请日期 2008.07.11
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01J37/317;H01L21/67 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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