一种全介质反射膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种制作工艺连续、制作成本较低且便于制作的全介质反射膜及其制备方法。本发明所述的全介质反射膜采用密度为2.15-2.32g/cm³的非晶硅薄膜制作成高折射率膜层，采用密度为1.90-2.10g/cm³的非晶硅薄膜制作成低折射率膜层，高折射率膜层和低折射率膜层都是采用非晶硅薄膜，非晶硅薄膜只需通过交替改变PECVD沉积过程中的反应条件，即可得到密度不同的非晶硅薄膜，该反射膜在结构上只采用了非晶硅作为膜层材料，具有工艺连续、一次成膜的优点，同时，当前成熟的非晶硅薄膜生产工艺使得该种反射膜得以低成本、大面积制备，具有很强的实用意义。适合在光器件领域推广应用。

主权项

一种全介质反射膜，包括基底(1)以及多层高折射率膜层(2)，所述多层高折射率膜层(2)依次层叠的设置在基底(1)的上表面，所述相邻的两层高折射率膜层(2)之间设置有一层低折射率膜层(3)，其特征在于：所述高折射率膜层(2)是密度为2.15‑2.32g/cm³的非晶硅薄膜，所述低折射率膜层(3)是密度为1.90‑2.10g/cm³的非晶硅薄膜。