发明名称 CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND CHARGED BEAM WRITING METHOD
摘要 <p>기판으로의 스크래치를 억제하고, 또한 파티클의 발생을 억제하는 것이 가능한 묘화 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 묘화 장치(100)는, 묘화 대상 기판의 외주부 전체를 상방으로부터 커버하는 기판 커버를 기판에 착탈하는 기판 커버 착탈 기구(30)와, 기판 커버가 기판에 장착된 상태에서, 하전 입자빔을 이용하여 기판 상에 패턴을 묘화하는 묘화부(150)와, 소정의 계측 위치에서, 묘화부에 의해 묘화되기 전과 묘화된 후에, 기판 커버가 기판에 장착된 상태에서 기판 커버의 위치를 계측하는 계측 기구(50)와, 기판 커버가 장착된 기판의 위치에 대하여, 계측된 묘화 후의 기판 커버의 위치와 계측된 묘화 전의 기판 커버의 위치 간에서의 위치 이탈량을 보정하는 반송 로봇(142)을 구비한 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101476388(B1) 申请公布日期 2014.12.24
申请号 KR20120108908 申请日期 2012.09.28
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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