发明名称 |
气化系统流动阻尼 |
摘要 |
本发明涉及气化系统流动阻尼,提供了一种气化系统构件。在一实施例中,气化系统构件,例如急冷单元(14)或洗涤器(19)可保持冷却流体(52)的池,用于冷却另一流体(47)。气化系统构件包括流动阻尼机构(70,88,98,100,102,104,106,112,118,120,130),其设计成在所述气化系统构件内阻尼所述冷却流体(52)、另一流体(47)或两者的流动。流动阻尼机构可安置于在浸管(54)与导流管(56)之间形成的内部腔室(58)中,或者安置于所述气化系统构件的壁与所述导流管(56)之间形成的外部腔室(60)中。该流动阻尼机构也可安置于该内部腔室(58)与外部腔室(60)之间。 |
申请公布号 |
CN101935554B |
申请公布日期 |
2014.12.24 |
申请号 |
CN201010226965.4 |
申请日期 |
2010.06.30 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
H·B·克洛科夫;J·M·斯托里;A·J·阿瓦利亚诺;G·王;G·D·曼德鲁西亚克;K·哈德凯斯尔;S·佩伦;P·蒂瓦里;G·拉斯科夫斯基;J·B·科里;C·迪努 |
分类号 |
C10J3/84(2006.01)I;C10J3/48(2006.01)I |
主分类号 |
C10J3/84(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
陈江雄;谭祐祥 |
主权项 |
一种气化系统构件,包括:容器(50),其配置成保持冷却流体(52)的池;浸管(54),其安置于所述容器(50)中,以将另一流体(47)导向所述池;导流管(56),其环绕所述浸管(54),以在所述浸管(54)与所述导流管(56)之间形成内部腔室(58),且在所述导流管(56)与容器壁之间形成外部腔室(60);以及流动阻尼机构,所述流动阻尼机构包括阻尼圈,所述阻尼圈中的每个部分地在所述容器壁与所述导流管之间延伸,配置成通过形成曲折的流动路径阻尼所述气化系统构件内所述冷却流体(52)的流动;其中所述阻尼圈延伸在所述保持冷却流体(52)的池内;其中所述阻尼圈包括第一环形圈(98)和第二环形圈(98),所述第一环形圈(98)安置成与所述容器(50)邻接,且所述第二环形圈(98)安置成与所述导流管(56)邻接且配置成与所述第一环形圈(98)交接,以形成曲折流动路径,供所述冷却流体(52)通过所述外部腔室(60)。 |
地址 |
美国纽约州 |