| 发明名称 | 沉积掩模组件 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种沉积掩模组件，该沉积掩模组件包括：掩模，其中形成有沉积图案；以及掩模框架，固定到掩模的边缘，开口形成在掩模框架的中心。彼此面对的掩模的边缘的第一表面和掩模框架的邻近于所述开口的第一表面彼此焊接。 | ||
| 申请公布号 | CN104233188A | 申请公布日期 | 2014.12.24 |
| 申请号 | CN201410274708.6 | 申请日期 | 2014.06.19 |
| 申请人 | 三星显示有限公司 | 发明人 | 韩政洹 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 刘灿强;尹淑梅 |
| 主权项 | 一种沉积掩模组件，其特征在于，所述沉积掩模组件包括：掩模，其中形成有沉积图案；以及掩模框架，固定到掩模的边缘；开口形成在掩模框架的中心，其中，彼此面对的掩模的边缘的第一表面和掩模框架的邻近于所述开口的第一表面彼此焊接。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市 | ||