发明名称 热蒸发镀膜设备的热蒸发源
摘要 一种热蒸发镀膜设备的热蒸发源,包括用于沉积薄膜的衬底、用于装载蒸发材料的坩埚,及用于加热所述坩埚的加热组件;所述坩埚上设有多个与所述衬底相对的喷嘴,所述多个喷嘴中的每两个相邻喷嘴之间的距离不全相等。采用非均匀分布的喷嘴排列方式,改变了每个喷嘴喷射到衬底平面上的位置,而衬底上的总的喷射材料是各个喷嘴喷射材料的叠加,从而改善蒸发镀膜的均匀性。
申请公布号 CN102994958B 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201210544335.0 申请日期 2012.12.14
申请人 深圳先进技术研究院;香港中文大学 发明人 张撷秋;肖旭东;陈旺寿;宋建军;刘壮;顾光一;杨春雷
分类号 C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 刘诚;吴平
主权项 一种热蒸发镀膜设备的热蒸发源,包括用于沉积薄膜的衬底、用于装载蒸发材料的坩埚,及用于加热所述坩埚的加热组件;其特征在于,所述坩埚上设有多个与所述衬底相对的喷嘴,所述多个喷嘴中的每两个相邻喷嘴之间的距离不全相等;其中两个d2间距用于把喷嘴分成三组,中央的5个喷嘴组成主喷射组,其中相邻间距为d1,两边各有一组补偿组,每个组内喷嘴以d3等距离分布,组和组之间以间距d2分开;对于喷嘴和衬底间距为20cm的情况,对于衬底的宽度为f,f的单位为cm,分组喷组方案中的三个特征间距分别为,以cm为单位:d1=0.09*f+1.6;d2=0.05*f+5;d3=0.1*f          (III);对于喷嘴和衬底间距为30cm的情况,对于衬底的宽度f,f的单位为cm,分组喷组方案中的三个特征间距分别为,以cm为单位:d1=0.05*f+4;d2=0.2*f+2;d3=3            (IV)。
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