发明名称 |
一种封装高度可控的扇出型封装结构及制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种封装高度可控的扇出型封装结构及制造方法,所述结构包括芯片、再布线层、限高块、凸点,其中,所述芯片设置在所述再布线层上,其中所述芯片距离所述再布线层具有第一距离;所述限高块设置在所述再布线层上,其中所述限高块距离所述再布线层具有第二距离;所述凸点设置在所述芯片上,且所述凸点的第一部分露出所述再布线层;其中,所述再布线层、所述限高块、所述芯片构成了第一空间,且所述第一空间内填充树脂;其中,所述第二距离大于所述第一距离。本发明通过使用限高块而不必使用高精度塑封模具,具有大幅度降低封装制造和加工成本的技术效果。 |
申请公布号 |
CN104241216A |
申请公布日期 |
2014.12.24 |
申请号 |
CN201410292899.9 |
申请日期 |
2014.06.25 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
发明人 |
于中尧 |
分类号 |
H01L23/31(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/31(2006.01)I |
代理机构 |
北京华沛德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘杰 |
主权项 |
一种封装高度可控的扇出型封装结构,其特征在于,所述结构包括:芯片;再布线层,所述芯片设置在所述再布线层上,其中所述芯片距离所述再布线层具有第一距离;限高块,所述限高块设置在所述再布线层上,其中所述限高块距离所述再布线层具有第二距离;凸点,所述凸点设置在所述芯片上,且所述凸点的第一部分露出所述再布线层;其中,所述再布线层、所述限高块、所述芯片构成了第一空间,且所述第一空间内填充树脂;其中,所述第二距离大于所述第一距离。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |