发明名称 | 沉积掩模 | ||
摘要 | 公开了一种用于沉积薄膜的掩模以及一种使用该掩模的薄膜沉积方法。该掩模包括设置在框架上的图案条。图案条可移动并且被定位以形成沉积图案。该掩模包括被构造为将图案条移动到多个位置以修改沉积图案的图案修改机构。 | ||
申请公布号 | CN104233187A | 申请公布日期 | 2014.12.24 |
申请号 | CN201410119858.X | 申请日期 | 2014.03.27 |
申请人 | 三星显示有限公司 | 发明人 | 金雄植 |
分类号 | C23C14/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 韩芳;薛义丹 |
主权项 | 一种沉积掩模,所述沉积掩模包括:框架;图案条,设置在框架上,图案条被构造为形成沉积图案;以及图案修改机构,被构造为移动图案条以修改沉积图案。 | ||
地址 | 韩国京畿道龙仁市 |