| 发明名称 | 光学元件制造方法以及光学元件制造装置 | ||
| 摘要 | 在光学元件制造方法和制造装置中，抑制在使光学元件材料在气体中悬浮进行加热后在材料上产生不均匀的温度分布。光学元件制造方法包括：加热工序，使光学元件材料（100）在气体中悬浮进行加热；以及加压工序，之后使第1成型模具（21）和第2成型模具（31）同时接触悬浮状态的光学元件材料（100），利用该第1成型模具（21）和第2成型模具（31）对光学元件材料（100）进行加压。 | ||
| 申请公布号 | CN102884013B | 申请公布日期 | 2014.12.24 |
| 申请号 | CN201180022075.4 | 申请日期 | 2011.03.18 |
| 申请人 | 奥林巴斯株式会社 | 发明人 | 本司大典 |
| 分类号 | C03B11/00(2006.01)I;C03B11/08(2006.01)I;C03B11/12(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I | 主分类号 | C03B11/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 李辉;于英慧 |
| 主权项 | 一种光学元件制造方法，其中，所述光学元件制造方法包括：加热工序，使光学元件材料在气体中悬浮而进行加热；以及加压工序，之后使第1成型模具和第2成型模具同时接触悬浮状态的所述光学元件材料，利用该第1成型模具和该第2成型模具对所述光学元件材料进行加压。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||