发明名称 |
纯化铝之方法及使用纯化之铝纯化矽之方法 |
摘要 |
本发明提供用以纯化铝之方法。方法包含:(a)自铝及选自钛、钒、锆、铬及其组合中之金属添加剂形成熔融液体;(b)允许杂质形成于熔融液体中,其中杂质包含金属添加剂与硼之反应产物;(c)选择性地自熔融液体移除至少一部份之杂质;(d)冷却熔融液体以形成固化之铝;及(e)选择性地移除包含至少一部份之杂质之固化之铝的一部份;其中进行至少一可选步骤以提供纯化之铝。 |
申请公布号 |
TWI465577 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
申请号 |
TW102122410 |
申请日期 |
2013.06.24 |
申请人 |
希利柯尔材料股份有限公司 美国 |
发明人 |
特伦娜 亚连 |
分类号 |
C22B21/00;C01B33/037 |
主分类号 |
C22B21/00 |
代理机构 |
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代理人 |
杨长峯 新北市中和区中正路928号5楼;李国光 新北市中和区中正路928号5楼;张仲谦 新北市中和区中正路928号5楼 |
主权项 |
一种用以纯化铝之方法,该方法包含:(a)自一起始铝及选自钛、钒、锆、铬及其组合中之一金属添加剂形成一熔融液体;(b)允许一杂质形成于该熔融液体中,其中该杂质包含该金属添加剂与存在于该起始铝中的硼之一反应产物;(c)选择性地自该熔融液体移除至少一部份之该杂质;(d)冷却该熔融液体以形成一固化之铝;以及(e)选择性地移除包含至少一部份之该杂质之该固化之铝的一部份;其中进行(c)或(e)中至少一可选步骤以提供一纯化之铝,其中移除存在于该起始铝中之至少约25wt.%之硼以提供该纯化之铝。 |
地址 |
美国 |