| 发明名称 |
矽化合物、含矽化合物、包含该含矽化合物之光阻下层膜形成用组成物及图案形成方法 |
| 摘要 |
本发明之目的在于提供一种光阻下层膜，不仅能应用在负显影获得之由亲水性有机化合物形成之光阻图案，也能应用在知之正显影获得之由疏水性化合物构成之光阻图案。一种下列通式(A-1)或(A-2)表示之矽化合物；;(A-1);(A-2);(R为碳数1至6之烃基，R1、R2为酸不稳定基，R3为氢原子或碳数1~30之1价有机基，k为1或2，m为0、1、2，n为0或1)。 |
| 申请公布号 |
TWI465456 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
| 申请号 |
TW102113964 |
申请日期 |
2013.04.19 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
荻原勤;上田贵史;种田义则;金山昌广 |
| 分类号 |
C07F7/18;G03F7/11;G03F7/039;G03F7/038;H01L21/027 |
主分类号 |
C07F7/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
| 主权项 |
一种下列通式(A-1)或(A-2)表示之矽化合物；(R为碳数1至6之烃基，R1、R2为缩醛基或3级烷基之酸不稳定基，R3为氢原子或碳数1~30之1价有机基，k为1或2，m为0、1、2，n为0或1)。 |
| 地址 |
日本 |
