发明名称 具有高透光率之可挠式太阳能电池结构及其制备方法
摘要 本发明揭示一种具有高透光率之可挠式太阳能电池结构及其制备方法,该太阳能电池之结构主要包含一基板;一第一氧化锌透明导电膜;一镶埋结晶矽质之P型半导体层;一镶埋微晶矽质之本质型(i型)半导体层;一镶埋奈米晶矽质之N型半导体层以及一第二氧化锌透明导电膜。其中,具有高透光率之氧化锌透明导电膜以及该P-i-N半导体层之多能隙结构系用以扩展对太阳光谱波长范围的吸收,其将有助于增加开路电压(Voc),进而提升太阳能电池之光电转换效率。
申请公布号 TWI466306 申请公布日期 2014.12.21
申请号 TW098130392 申请日期 2009.09.09
申请人 国立屏东科技大学 屏东县内埔乡学府路1号 发明人 杨茹媛;熊京民;周春禧;黄武章
分类号 H01L31/042;H01L31/18 主分类号 H01L31/042
代理机构 代理人 李文贤 新北市板桥区民生路1段33号17楼之3
主权项 一种具有高透光率之可挠式太阳能电池结构,其包含:一可挠式基板,具有一粗糙表面;一第一氧化锌透明导电膜,配置于该可挠式基板上并具有(002)以及(103)之结晶面,具有一粗糙表面,由阴极电弧电浆沉积系统制备之,其片电阻值系介于370Ω/□至470Ω/□之间,于可见光之穿透率系介于90%至95%之间,其晶粒尺寸系介于1.6奈米至2.6奈米之间;一P型半导体层,具有一粗糙表面,配置于该第一氧化锌透明导电膜上,该P型半导体层内镶埋一结晶矽质,该结晶矽质之晶粒尺寸系介于1微米至5微米之间且占该P型半导体层之比例系为80%至100%之间;一本质型(i型)半导体层,配置于该P型半导体层上,厚度系介于0.5微米到2微米之间并具有一粗糙表面,镶埋一微晶矽质,且该微晶矽质之晶粒尺寸系介于10奈米至25奈米之间且占该本质型(i型)半导体层之比例系为30%至50%之间;一N型半导体层,配置于该本质型(i型)半导体层上,具有一粗糙表面,镶埋一奈米晶矽质,且该奈米晶矽质之晶粒尺寸系小于10奈米且占该N型半导体层之比例系为10%至20%之间;以及一第二氧化锌透明导电膜,配置于该N型半导体层上,具有一粗糙表面,并具有(002)以及(103)之结晶面,由阴极电弧电浆沉积系统制备之,其片电阻值系介于250Ω/□至350Ω/□之间,其平均粗糙度系介于2.5奈米至9.5奈米之间,其于可见光之穿透率系介于90%至95%之间,其晶粒尺寸系介于1.6奈米至2.6奈米之间;其中该N型半导体层之氧含量系介于5×1018到5×1017原子/立方公分之间;且该本质型(i型)半导体层之厚度系为该N型半导体层之厚度的7至15倍之间,且该本质型(i型)半导体层之厚度系为该P型半导体层之厚度的20至35倍之间;以及该N型半导体层之能隙大于该本质型(i型)半导体层之能隙,而该本质型(i型)半导体层之能隙系大于该P型半导体层之能隙。
地址 屏东县内埔乡学府路1号